Question

(16分)氨氣是一種重要的基礎化工原料，用途廣泛。
（1）在微電子工業中，氨水可作刻蝕劑H₂O₂的清除劑，產物不污染環境。該反應的化學方程式為2NH₃ + 3H₂O₂=         +6H₂O
（2）工業中常用以下反應合成氨：N₂+3H₂2NH₃ △H＜0。某實驗室在三個不同條件的密閉容器中，分別加入N₂和H₂，濃度均為c(N₂) =" 0.100mol/L," c(H₂) = 0.300mol/L，進行反應時, N₂的濃度隨時間的變化如圖①、②、③曲線所示。

該反應平衡常數的數學表達式為            ；實驗②平衡時H₂的轉化率為_____       。
（3）據圖所示，②、③兩裝置中各有一個條件與①不同。請指出，并說明判斷的理由。
②條件：_______     理由：                                     ________
③條件：_______     理由：                                     ________

Answer 1

．(16分)
（1）2NH₃ + 3H₂O₂  =" " N₂  +  6H₂O  （2分）
（2）K  = （3分）            40% （3分）
（3）②：加了催化劑（2分）；因為加入催化劑能縮短達到平衡的時間，但化學平衡不移動，所以①②兩裝置達到平衡時N₂的濃度相同。（2分）
③：溫度高（2分）；該反應為放熱反應，溫度升高，達到平衡的時間縮短，但平衡向逆反應方向移動，③中到達平衡時N₂的濃度高于①。（2分）

略