Question

【題目】下列離子方程式正確的是( )

A.二氧化硅溶于氫氟酸溶液中： SiO2+4H++4F-=SiF4↑ +2H2O

B.偏鋁酸鈉溶液中通入過量的CO2：2AlO2- + CO2+3H2O=2Al(OH)3↓+ CO32-

C.稀硫酸加入氫氧化鋇溶液中：H+ ++ Ba2+ + OH-=BaSO4↓+ H2O

D.硫酸鋁溶液中加入過量的氨水：Al3++3NH3·H2O=Al(OH)3↓+3NH4+

Answer 1

【答案】D

【解析】

A. 二氧化硅與氫氟酸反應生成四氯化硅和水，離子方程式為： SiO2+4HF=SiF4↑ +2H2O，故A錯誤；

B. 偏鋁酸鈉與過量的CO2反應生成碳酸氫鈉，離子方程式為：AlO2-+CO2+2H2O=Al(OH)3↓+ HCO3-，故B錯誤；

C. 稀硫酸與氫氧化鋇反應生成硫酸鋇和水，離子方程式為：2H+++Ba2++2OH-=BaSO4↓+2 H2O，故C錯誤；

D. 硫酸鋁與過量的氨水反應生成氫氧化鋁沉淀和硫酸銨，離子方程式為：Al3++3NH3·H2O=Al(OH)3↓+3NH4+，故D正確；

故選D。