【題目】已知次氯酸是比碳酸還弱的酸，反應Cl2 + H2O
HCl + HClO達平衡后，要使HClO濃度增大，可加入
A．足量6mol/L NaOH溶液 B．少量6mol/L H2SO4溶液
C．少量NaHCO3固體 D．足量Na2SO3溶液
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【題目】用標準濃度的氫氧化鈉溶液來滴定未知濃度的鹽酸，下列操作中會使鹽酸測定的濃度偏大的是（ ）
①酸式滴定管用蒸餾水洗凈后，未用鹽酸潤洗
②錐形瓶中盛有少量蒸餾水，再加待測液
③堿式滴定用蒸餾水洗凈后，未用標準溶液潤洗
④滴定前堿式滴定管尖端氣泡未排除，滴定后氣泡消失
⑤滴定后觀察堿式滴定管讀數時，視線高于刻度線
A.①④B.①③C.②⑤D.③④
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【題目】高純氧化鐵是現代電子工業的重要材料．以下是用硫酸廠產生的燒渣
主要成分為
、
、FeO、
為原料制備高純氧化鐵軟磁
的生產流程示意圖，下列說法不正確的是
A.酸浸時，常需將燒渣粉碎、并加入過量
，其目的是提鐵元素的浸出率，同時抑制鐵離子的水解
B.加入
時，發生反應
的離子方程式為
C.加入
為了生成
，檢驗是否洗滌干凈的方法是取最后一次洗滌液少量放入試管，滴加鹽酸酸化的氯化鋇溶液，若無沉淀生成，說明洗滌干凈
D.煅燒時空氣中的氧氣作氧化劑，所以用氯氣代替空氣也可得到高純氧化鐵
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【題目】常溫下，0.2 mol·L－1的一元酸HA與等濃度NaOH溶液等體積混合后，所得溶液中部分微粒組分及濃度如圖所示，下列說法正確的是( )
A. HA為強酸
B. 該混合溶液pH＝7.0
C. 該混合溶液中：c(A－)＋c(Y)＝c(Na＋)
D. 圖中X表示HA，Y表示OH－，Z表示H＋
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【題目】工業上制備純硅反應的熱化學方程式如下：SiCl4(g)+2H2(g)
Si(s)+4HCl △H=+QkJ/mol(Q＞0)，某溫度、壓強下，將一定量反應物通入密閉容器進行上述反應，下列敘述正確的是（ ）
A.反應過程中，若增大壓強能提高SiCl4的轉化率
B.若反應開始時SiCl4為1mol，則達平衡時，吸收熱量為QkJ
C.反應至4min時，若HCl濃度為0.12mol/L，則H2的反應速率為0.03mol/(L·min)
D.反應吸收0.025QkJ熱量時，生成的HCl通入100mL1mol/L的NaOH溶液中恰好完全反應
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【題目】（10分）H2S在水中的電離方程式為 。
（1）向H2S溶液中加入濃鹽酸時，電離平衡向 （填左、右、不）移動，c(H＋) （填增大、減小、不變），c(S2－) （填增大、減小、不變）。
（2）向H2S溶液中加入NaOH固體，電離平衡向 （填左、右、不）移動，c(H＋) （填增大、減小、不變），c(S2－) （填增大、減小、不變）。
（3）若要使H2S溶液中c(HS－)增大，且使H2S的電離平衡逆向移動，可以加入 。
（4）向H2S溶液中加水，c(HS－) （填增大、減小、不變），溶液pH （填增大、減小、不變）
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【題目】已知298K時，Ksp(NiS)=1.0×10-21，Ksp(FeS)=6.0× 10-18，其沉淀溶解平衡曲線如圖所示(圖中R表示Ni或Fe)，下列說法正確的是(已知： 
≈2.4， 
≈3.2) （ ）
A. M點對應的溶液中，c(S2-)≈3.2×10-11 mol·L-1
B. 與P點相對應的NiS的分散系是均一穩定的
C. 向Q點對應的溶液中加水，可轉化成N點對應的溶液
D. FeS+Ni2+
NiS+Fe2+的平衡常數K=6000
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【題目】歸納法是髙中化學學習常用的方法之一，某化學研究性學習小組在學習了《化學反應原理》后作出了如下的歸納總結：(均在常溫下)
①pH=1的強酸溶液，加水稀釋后，溶液中離子濃度都降低
②pH=2的鹽酸和pH=l的鹽酸，c(H+)之比為2：1
③pH相等的三種溶液：a.CH3COONa b.NaHCO3 c.NaOH，其溶質物質的量濃度由小到大順序為：c、b、a
④反應2A(s)+B(g)=2C (g)+D(g)不能自發進行，則該反應△H一定大于0
⑤已知醋酸電離平衡常數為Ka：醋酸根水解常數為Kb；水的離子積為Kw：則三者關系為：KaKb=Kw
⑥反應A(g)=2B(g) △H，若正反應的活化能為EakJmol-1，逆反應的活化能為EbkJmol-1，則△H=(Ea-Eb)kJmol-1上述歸納正確的是（ ）
A.全部B.③④⑤⑥C.②④⑤⑥D.①②④⑤
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【題目】下列說法正確的是( )
A. 圖①中ΔH1＝ΔH2＋ΔH3
B. 圖②在催化劑條件下，反應的活化能等于E1＋E2
C. 圖③表示醋酸溶液滴定 NaOH溶液和氨水混合溶液的電導率變化曲線
D. 圖④可表示由CO(g)生成CO2(g)的過程中要放出566 kJ 熱量
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