Question

【題目】硅是一種重要的半導體材料，應用范圍廣。三氯硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程如圖所示：

(1)寫出上述流程中一種氧化物的化學式：______________；

(2)上述流程中最后一步反應的化學方程式為____________________________，該反應屬于________(填基本反應類型)反應；

(3)如果還原SiHCl3過程中混入O2，可能引起的后果是________；

(4)該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)的化學式是__________。

Answer 1

【答案】 SiO2 SiHCl3＋H2Si＋3HCl 置換 爆炸 HCl

【解析】(1)上述流程中的氧化物是二氧化硅，化學式分別是SiO2；(2)三氯甲硅烷和氫氣反應的化學方程式為：SiHCl3＋H2Si＋3HCl；(3)如果還原SiHCl3過程中混入O2，氧氣和氫氣混合達到一定程度時，在高溫條件下會發(fā)生爆炸；(4)該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)是HCl。