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工廠采用下列反應(yīng)生產(chǎn)甲醇（CH₃OH）: CO（g） + 2H₂（g） CH₃OH（g） △H<0, 為了增加產(chǎn)量，提高效率，宜采用的反應(yīng)條件是（　　）。

A．高溫、高壓、催化劑	B．低溫、低壓、催化劑
C．適當(dāng)?shù)臏囟取⒏邏骸⒋呋瘎?/td>	D．低溫、高壓、催化劑

解析

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：閱讀理解

（2012?長寧區(qū)一模）Ⅰ．工業(yè)上電解飽和食鹽能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅．
（1）原料粗鹽中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等雜質(zhì)，必須精制后才能供電解使用．精制時，粗鹽溶于水過濾后，還要加入的試劑分別為①Na₂CO₃、②HCl（鹽酸）③BaCl₂，這3種試劑添加的合理順序是

③①②

（填序號）洗滌除去NaCl晶體表面附帶的少量KCl，選用的試劑為

③

．（填序號）（①飽和Na₂CO₃溶液 ②飽和K₂CO₃溶液 ③75%乙醇　④四氯化碳）
（2）如圖是離子交換膜（允許鈉離子通過，不允許氫氧根與氯離子通過）法電解飽和食鹽水示意圖，電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是

氯氣

；NaOH溶液的出口為

（填字母）；精制飽和食鹽水的進口為

（填字母）；干燥塔中應(yīng)使用的液體是

濃硫酸

．

Ⅱ．多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關(guān)注．
（1）SiCl₄可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄與H₂和O₂反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為

SiCl₄+2H₂+O₂

高溫

SiO₂+4HCl

SiCl₄+2H₂+O₂

高溫

SiO₂+4HCl

．
（2）SiCl₄可轉(zhuǎn)化為SiHCl₃而循環(huán)使用．一定條件下，在20L恒容密閉容器中的反應(yīng)：
3SiCl₄（g）+2H₂（g）+Si（s）?4SiHCl₃（g）
達平衡后，H₂與SiHCl₃物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H₂全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗純NaCl的質(zhì)量為

0.351

kg．
（3）實驗室制備H₂和Cl₂通常采用下列反應(yīng)：
Zn+H₂SO₄→ZnSO₄+H₂↑；MnO₂+4HCl（濃）

△

MnCl₂+Cl₂↑+2H₂O
據(jù)此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H₂的裝置

（填代號）和制備并收集干燥、純凈Cl₂的裝置

（填代號）．
可選用制備氣體的裝置：