Question

硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：
(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。
三氯甲硅烷(SiHCl₃)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl₃制備高純硅的化學反應方程式                                 。
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl₃遇水劇烈反應生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質，寫出配平的化學反應方程式                                             ；
H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂，可能引起的后果是                                 
                                                                            。
(2)下列有關硅材料的說法正確的是        (填字母)。

A．碳化硅化學性質穩定，可用于生產耐高溫水泥

B．氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導纖維

D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高

E．鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
高溫

Answer 1

（1） SiHCl₃+H₂======Si+3HCl（2分）  SiHCl₃+3H₂O=H₂SiO₃↓+3HCl+H₂↑(2分)
H₂與O₂反應爆炸 ，生成的水與SiHCl₃反應， 生成的Si與O₂反應生成SiO₂(2分)  
（2）ABCD(4分)

解析