單晶硅是信息產業中重要的基礎材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質)，粗硅與氯氣反應生成四氯化硅(反應溫度450～500℃)，四氯化硅經提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實驗室制備四氯化硅的裝置示意圖。
相關信息如下：
a．四氯化硅遇水極易水解；
b．硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應生成相應的氯化物；
c．有關物質的物理常數見下表：
| 物質 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
| 沸點/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | — |
| 熔點/℃ | －70.0 | －107.2 | — | — | — |
| 升華溫度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
請回答下列問題：
(1)寫出裝置A中發生反應的離子方程式______________________。
(2)裝置A中g管的作用是________；裝置C中的試劑是________；裝置E中的h瓶需要冷卻的理由是__________________________________。
(3)裝置E中h瓶收集到的粗產物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅，精餾后的殘留物中，除鐵元素外可能還含有的雜質元素是________(填寫元素符號)。
天天向上一本好卷系列答案
小學生10分鐘應用題系列答案科目：高中化學 來源： 題型：閱讀理解
| 物質 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
| 沸點/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
| 熔點/℃ | -70.0 | -107.2 | - | - | - |
| 升華溫度/℃ | - | - | 180 | 300 | 162 |
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科目：高中化學 來源： 題型：閱讀理解
相關信息如下：
a.四氯化硅遇水極易水解；
b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應生成相應的氯化物；
c.有關物質的物理常數見下表：
物質 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl下標5 |
沸點/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | — |
熔點/℃ | -70.0 | -107.2 | — | — | — |
升華溫度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
請回答下列問題：
(1)寫出裝置A中發生反應的離子方程式____________。
(2)裝置A中g管的作用是____________；裝置C中的試劑是;裝置E中的h瓶需要冷卻的理由是____________________________________。
(3)裝置E中h瓶收集到的粗產物可通過精餾（類似多次蒸餾）得到高純度四氯化硅，精餾后的殘留物中，除鐵元素外可能還含有的雜質元素是____________（填寫元素符號）。
(4)為了分析殘留物中鐵元素的含量，先將殘留物預處理，使鐵元素還原成Fe2+,再用KMnO4標準溶液在酸性條件下進行氧化還原滴定，反應的離子方程式是：5Fe2++MnO-4+8H+====5Fe3++Mn2++4H2O
①滴定前是否要滴加指示劑？________（填“是”或“否”），請說明理由__________________。
②某同學稱取5.000 g殘留物，經預處理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL試樣溶液，用1.000×10-2 mol·L-1 KMnO4標準溶液滴定。達到滴定終點時，消耗標準溶液20.00 mL，則殘留物中鐵元素的質量分數是________________。
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科目：高中化學 來源： 題型：
單晶硅是信息產業中重要的基礎材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅（含鐵、鋁、硫、磷等雜質），粗硅與氯氣反應生成四氯化硅（反應溫度450-500°C），四氯化硅經提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實驗室制備四氯化硅的裝置示意圖。
相關信息如下：
a.四氯化硅遇水極易水解；
b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應生成相應的氯化物；
c.有關物質的物理常數見下表：
請回答下列問題：
（1）寫出裝置A中發生反應的離子方程式 。
（2）裝置A中g管的作用是 ；裝置C中的試劑是 ；裝置E中的h瓶需要冷卻理由是 。
（3）裝置E中h瓶收集到的粗產物可通過精餾（類似多次蒸餾）得到高純度四氯化硅，精餾后的殘留物中，除鐵元素外可能還含有的雜質元素是 （填寫元素符號）。
（4）為了分析殘留物中鐵元素的含量，先將殘留物預處理，是鐵元素還原成Fe2+ ，再用KMnO4標準溶液在酸性條件下進行氧化還原滴定，反應的離子方程式是：
①滴定前是否要滴加指示劑？ （填“是”或“否”），請說明理由 。
②某同學稱取5.000g殘留物，預處理后在容量瓶中配制成100ml溶液，移取25.00ml，試樣溶液，用1.000×10-2mol· L-1KMnO4標準溶液滴定。達到滴定終點時，消耗標準溶液20.00ml,則殘留物中鐵元素的質量分數是 。
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科目：高中化學 來源： 題型：
單晶硅是信息產業中重要的基礎材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅（含鐵、鋁、硫、磷等雜質），粗硅與氯氣反應生成四氯化硅（反應溫度450-500°C），四氯化硅經提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實驗室制備四氯化硅的裝置示意圖。
相關信息如下：
a.四氯化硅遇水極易水解；
b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應生成相應的氯化物；
c.有關物質的物理常數見下表：
請回答下列問題：
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（1）寫出裝置A中發生反應的離子方程式 。
（2）裝置A中g管的作用是 ；裝置C中的試劑是 ；裝置E中的h瓶需要冷卻理由是 。
（3）裝置E中h瓶收集到的粗產物可通過精餾（類似多次蒸餾）得到高純度四氯化硅，精餾后的殘留物中，除鐵元素外可能還含有的雜質元素是 （填寫元素符號）。
（4）為了分析殘留物中鐵元素的含量，先將殘留物預處理，是鐵元素還原成Fe2+ ，再用KMnO4標準溶液在酸性條件下進行氧化還原滴定，反應的離子方程式是：
①滴定前是否要滴加指示劑？ （填“是”或“否”），請說明理由 。
②某同學稱取5.000g殘留物，預處理后在容量瓶中配制成100ml溶液，移取25.00ml，試樣溶液，用1.000×10-2mol· L-1KMnO4標準溶液滴定。達到滴定終點時，消耗標準溶液20.00ml,則殘留物中鐵元素的質量分數是 。
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科目：高中化學 來源：2013屆安徽省高三第一次統考化學試卷（解析版） 題型：實驗題
（10分）單晶硅是信息產業中重要的基礎材料。通常用炭在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質)，粗硅與氯氣反應生成四氯化硅（反應溫度450~500℃），四氯化硅經提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實驗室制備四氯化硅的裝置示意圖。
相關信息如下：
①四氯化硅遇水極易水解；
②硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應生成相應的氯化物；
③有關物質的物理常數見下表：
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物質 |
SiCl4 |
BCl3 |
AlCl3 |
FeCl3 |
PCl5 |
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沸點/℃ |
57.7 |
12.8 |
— |
315 |
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熔點/℃ |
－70.0 |
－107.2 |
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升華溫度/℃ |
— |
— |
180 |
300 |
162 |
請回答下列問題：
（1）寫出裝置A中發生反應的離子方程式 。
（2）裝置A中g管的作用是 ；裝置C中的試劑是 ；
裝置E中的h瓶需要冷卻的理由是 。
（3）裝置E中h瓶收集到的粗產物可通過精餾（類似多次蒸餾）得到高純度四氯化硅，精餾后的殘留物中，除鐵元素外可能還含有的雜質元素是 （填寫元素符號）。
（4）為了分析殘留物中鐵元素的含量，先將殘留物預處理，使鐵元素還原成Fe2＋,再用KMnO4標準溶液在酸性條件下進行氧化還原滴定，反應的離子方程式是：
5Fe2＋＋MnO4－＋8H＋
5Fe3＋＋Mn2＋＋4H2O
①滴定前是否要滴加指示劑？ （填“是”或“否”），請說明理由
。
②某同學稱取5.000g殘留物后，經預處理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL試樣溶液，用1.000×10－2 mol/L KMnO4標準溶液滴定。達到滴定終點時，消耗標準溶液20.00 mL，則殘留物中鐵元素的質量分數是 。
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