Question

【題目】實(shí)驗(yàn)室用H2還原SiHCl3（沸點(diǎn)：31.85℃）制備純硅的裝置如圖所示（夾持裝置和尾氣處理裝置略去）,下列說法正確的是（ ）

A. 裝置Ⅱ、Ⅲ中依次盛裝的是濃H2SO4、冰水

B. 實(shí)驗(yàn)時(shí)，應(yīng)先加熱管式爐，再打開盛裝稀硫酸的分液漏斗

C. 為鑒定制得的硅中是否含微量鐵單質(zhì)，需要用到的試劑為鹽酸、雙氧水、硫氰化鉀溶液

D. 該實(shí)驗(yàn)中制備氫氣的裝置也可用于氧氧化鈉稀溶液與氯化銨固體反應(yīng)制備氨氣

Answer 1

【答案】C

【解析】本題制備晶體硅，H2＋SiHCl3Si＋3HCl，此反應(yīng)應(yīng)在IV裝置中進(jìn)行，A、裝置I的目的是制備氫氣，氫氣中含有水蒸氣，對(duì)后續(xù)實(shí)驗(yàn)產(chǎn)生干擾，必須除去，因此裝置II的目的是除去氫氣中的水蒸氣，即II中盛放濃硫酸，III的提供SiHCl3氣體，因此在水浴中加熱，故A錯(cuò)誤；B、應(yīng)先通入氫氣，目的是排除裝置中的空氣，防止發(fā)生危險(xiǎn)，故B錯(cuò)誤；C、硅不與鹽酸反應(yīng)，鐵與鹽酸反應(yīng)生成Fe2＋，F(xiàn)e2＋被H2O2氧化成Fe3＋，與KSCN溶液變紅，可以鑒定是否含有鐵單質(zhì)，故C正確；D、用NaOH溶液制備氨氣，需要加熱或NaOH溶液為濃溶液，I裝置中沒有加熱裝置，且NaOH溶液為稀溶液，因此此裝置不能制備氨氣，故D錯(cuò)誤。