【題目】TNT是一種烈性炸藥，其結構簡式如圖所示，它是甲苯與濃硫酸、濃硝酸在一定條件下反應生成的．下列有關TNT的說法正確的是（ ） 
A.TNT分子式為C7H3O6N3
B.TNT的名稱叫2，4，6﹣三硝基甲苯
C.每個TNT分子中可共平面的碳原子最多為6個
D.若硝酸的結構可表示為HO﹣NO2 ， 每摩爾甲苯可取代3mol硝基制得TNT
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【題目】配制一定物質的量濃度的溶液時，由于操作不慎，使液面略超過了容量瓶的刻度(標線)，這時應采取的措施是
A．傾出標線以上的液體 B．吸出標線以上的溶液
C． 影響不大，不再處理 D．重新配制.
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【題目】室溫下，現有A、B、C、D、E、F六種常見化合物，已知它們的陽離子有K+、Ag+、Ca2+、Ba2+、Fe2+、Al3+ ， 陰離子有Cl﹣、OH﹣、CH3COO﹣、NO3﹣、SO42﹣、CO32﹣ ， 現將它們分別配成0.1mol/L的溶液，進行如下實驗：（已知：室溫下，飽和氫氧化鈣溶液濃度約為0.00165 g/mL）
①測得溶液A、C、E呈堿性，且堿性為A＞E＞C；
②向B溶液中滴加Na2S溶液，出現難溶于強酸且陰陽離子個數比為1：2的黑色沉淀；
③向D溶液中滴加Ba（NO3）2溶液，無明顯現象；
④向F溶液中滴加氨水，生成白色絮狀沉淀，沉淀迅速變成灰綠色，最后變成紅褐色．
根據上述實驗現象，回答下列問題：
（1）寫出下列化合物的化學式：A、B、C ．
（2）實驗④中白色沉淀變為紅褐色對應的化學方程式：
（3）D與E的溶液反應離子方程式是： ．
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【題目】氰化鈉（NaCN）是一種重要化工原料，用于化學合成、電鍍、冶金等方面．NaCN有劇毒，含氰廢水需經無害化處理才能排放，某電鍍廠含氰廢水的一種工業處理流程如下： 
已知：HCNO的結構式是：H﹣O﹣C≡N
HCN的Ka=6.02×10﹣10
[Ag（CN）2]﹣（aq）Ag+（aq）+2CN﹣（aq） K=1.3×10﹣21
回答下列問題：
（1）CN﹣中兩原子均為8電子穩定結構，請寫出CN﹣的電子式 ．
（2）氰化鈉遇水會產生劇毒氫氰酸，請寫出相應的離子方程式 ．
（3）向發生塔中通水蒸汽的目的是 ．
（4）氧化池中氰化物的降解分兩步進行 CN﹣被氯氣氧化成低毒的CNO﹣ ， 寫出相應的離子方程式 ，
CNO﹣被氯氣氧化成無毒的兩種氣體，寫出相應的離子方程式
（5）貯水池中廢水須先經堿化后再進行氧化的原因
（6）電鍍廠電鍍銀時需要降低鍍層金屬的沉積速度，使鍍層更加致密．電解液使用Na[Ag（CN）2]，請寫出陰極反應式 ， 解釋工業電鍍中使用氰離子（CN﹣）的原因 ．
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【題目】氯化亞銅（CuCl）常用作有機合成工業中的催化劑，在空氣中迅速被氧化成綠色；見光則分解，變成褐色．如圖是工業上用制作印刷電路的廢液（含Fe3+、Cu2+、Fe2+、Cl﹣）生產CuCl的流程： 
根據以上信息回答下列問題：
（1）生產過程中X的化學式為 ．
（2）寫出產生CuCl的化學方程式： ．
（3）在CuCl的生成過程中理論上不需要補充SO2氣體，結合化學方程式和必要的文字說明理由 ． 實際生產中SO2要適當過量，原因可能是（答一點即可）．
（4）實驗探究pH對CuCl產率的影響如下表所示：
pH | 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 |
CuCl產率/% | 70 | 90 | 82 | 78 | 75 | 72 | 70 |
析出CuCl晶體最佳pH為 ， 當pH較大時CuCl產率變低原因是 ． 調節pH時，（填“能”或“不能”）用相同pH的硝酸代替硫酸，理由是 ．
（5）氯化亞銅的定量分析： ①稱取樣品0.25g和過量的FeCl3溶液于錐形瓶中，充分溶解．
②用0.10molL﹣1硫酸鈰標準溶液滴定．已知：CuCl+FeCl3═CuCl2+FeCl2、Fe2++Ce4+═Fe3++Ce3+ ． 三次平行實驗結果如下（平行實驗結果相差不能超過1%）：
平行實驗次數 | 1 | 2 | 3 |
0.25g樣品消耗硫酸鈰標準溶液的體積（mL） | 24.35 | 24.05 | 23.95 |
則樣品中CuCl的純度為（結果保留三位有效數字）．
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【題目】已知有下圖中物質的相互轉化
試回答：
（1）寫出B的化學式________，D的化學式________。
（2）寫出由E轉變成F的化學方程式________。
（3）寫出下列離子方程式：
D溶液與AgNO3溶液反應________；向G溶液中加入A________。
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【題目】想一想：Ba(OH)2（固態）、CuSO4（固態）、CH3COOH（液態）這些物質為什么歸為一類，下列哪個物質還可以和它們歸為一類（ ）
A.75%的酒精溶液B.硝酸鈉（固態）C.鹽酸D.豆漿
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