【題目】NA為阿伏伽德羅常數，下列敘述正確的是（ ）
A. 室溫下，lLpH=13的NaOH溶液中，由水電離的OH-數目為0.1NA
B. 標準狀況下，2.24LCl2通入水中充分反應，轉移電子數目0.1NA
C. 常溫常壓下，42g乙烯和丁烯混合氣體中，含原子數目為9NA
D. 氫氧燃料電池正極消耗22.4L (標準狀況）氣體時，電路中通過的電子數目為2NA
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【題目】根據下列高分子化合物回答問題：
（1）合成聚丙烯酸鈉的單體的結構簡式是__________，反應類型是__________；
（2）合成滌綸有兩種單體，其中能和NaHCO3反應的單體的結構簡式是__________，其核磁共振氫譜的峰面積比是_________；
（3）①合成酚醛樹脂需要兩種單體，和這兩種單體均可以發生反應的試劑是__________（填字母序號）；
a. H2 b. Na c. Na2CO3 d. 溴水
②
和乙醛在酸性條件下也可以發生類似于制備酚醛樹脂的反應，此反應的化學方程式是____________________。
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【題目】【2015四川卷】(NH4)2SO4是常見的化肥和化工原料，受熱易分解。某興趣小組擬探究其分解產物。
[查閱資料] (NH4)2SO4在260℃和400℃時分解產物不同。
[實驗探究]該小組擬選用下圖所示裝置進行實驗（夾持和加熱裝置略）
實驗1：連接裝置A-B-C-D，檢查氣密性，按圖示加入試劑（裝置B盛0.5000mol/L鹽酸70.00mL）。通入N2排盡空氣后，于260℃加熱裝置A一段時間，停止加熱，冷卻，停止通入N2。品紅溶液不褪色，取下裝置B，加入指示劑，用0.2000mol/L NaOH溶液滴定剩余鹽酸，終點時消耗NaOH溶液25.00 mL。經檢驗滴定后的溶液中無SO42-。
（1）儀器X的名稱是________________。
（2）滴定前，下列操作的正確順序是_________(填字母編號)。
a．盛裝0.2000mol/L NaOH溶液 b．用0.2000mol/L NaOH溶液潤洗
c．讀數、記錄 d．查漏、清洗 e．排盡滴定管尖嘴的氣泡并調整液面
（3）裝置B內溶液吸收氣體的物質的量是__________mol
實驗2：連接裝置A-D-B，檢查氣密性，按圖示重新加入試劑。通入N2排盡空氣后，于400℃加熱裝置A至(NH4)2SO4完全分解無殘留物，停止加熱，冷卻，停止通入N2。觀察到裝置A、D之間的導氣管內有少量白色固體。經檢驗，該白色固體和裝置D內溶液中有SO32-，無SO42-。進一步研究發現，氣體產物中無氮氧化物。
（4）檢驗裝置D內溶液中有SO32-，無SO42-的實驗操作和現象是__________.
（5）裝置B內溶液吸收的氣體是____________.
（6）(NH4)2SO4在400℃分解的化學方程式是______________________.
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【題目】已知信息：[Cu(NH3)4]SO4的電離方程式：[Cu(NH3)4]SO4 ==[Cu(NH3)4]2＋+SO42。具有6個配體的Co3＋的配合物CoClm·nNH3，若1 mol此配合物與足量的AgNO3溶液反應只生成2 mol AgCl沉淀，則m、n的值分別是（ ）
A. m=3，n=4 B. m=3，n=3 C. m=5，n=1 D. m=3，n=5
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【題目】下列事實不能用元素周期律解釋的是
A. 酸性：HClO4 > H2SO3 B. 堿性：NaOH > Mg(OH)2
C. 氣態氫化物的穩定性：H2O > H2S D. Cl2從NaBr溶液中置換出Br2
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【題目】下列說法確的是
A. 水可用來鑒別溴苯和苯
B. 聚苯乙烯不能發生加成反應
C. 用于殺菌消毒的醫用酒精質量分數為95%
D. 植物油，動物脂肪和甘油都屬于油脂
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【題目】Ⅰ.沉淀的生成、溶解和轉化在無機物制備和提純以及科研等領域有廣泛應用。
（1）已知25℃時，Ksp(BaSO4)＝1×10－10，將BaSO4的懸濁液過濾，濾液中c(Ba2＋)＝_______mol·L－1。取100 mL濾液與100 mL 2 mol·L－1的Na2SO4溶液混合，混合液中c(Ba2＋)＝___________ mol·L－1。
（2）長期使用的鍋爐需要定期除水垢，否則會降低燃料的利用率。水垢中含有的CaSO4，可先用Na2CO3溶液處理，使之轉化為疏松、易溶于酸的CaCO3，而后用酸除去。
①CaSO4轉化為CaCO3的離子方程式為：_____________________________________________________
②請分析CaSO4轉化為CaCO3的原理：______________________________________________________
Ⅱ.在25 ℃時，HSCN、HClO、H2CO3的電離常數如下表：
HClO | HSCN | H2CO3 |
K＝3.2×10－8 | K＝0.13 | K1＝4.2×10－7 K2＝5.6×10－11 |
（1）1 mol·L－1的KSCN溶液中，所有離子的濃度由大到小的順序為_________________________________
（2）向Na2CO3溶液中加入過量HClO溶液，反應的化學方程式為_______________________________
（3）25 ℃時，為證明HClO為弱酸，某學習小組的同學設計了以下三種實驗方案。下列三種方案中，你認為能夠達到實驗目的的是______________________(填下列各項中序號)。
a．用pH計測量0.1mol·L－1NaClO溶液的pH，若測得pH>7，可證明HClO為弱酸
b．用pH試紙測量0.01 mol·L－1 HClO溶液的pH，若測得pH>2，可證明HClO為弱酸
c．用儀器測量濃度均為0.1 mol·L－1的HClO溶液和鹽酸的導電性，若測得HClO溶液的導電性弱于鹽酸，可證明HClO為弱酸
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【題目】硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：
(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅，三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如下：
石英砂
粗硅
SiHCl3(粗)
SiHCl3(純)
高純硅
①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式：_____________。
②整個制備過程必須嚴格控制無水、無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質，寫出這一過程的化學反應方程式：__；H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是__________。
(2)下列有關硅材料的說法正確的是_____(填字母)。
A.碳化硅化學性質穩定，可用于生產砂紙、砂輪的磨料
B.氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導纖維
D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高
E.鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
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