【題目】設NA為阿伏伽德羅常數(shù)的數(shù)值，下列說法正確的是（ ）
A.23gNa與足量H2O反應完全后失去2NA個電子
B.1molCu和足量熱濃硫酸反應可生成NA個SO3分子
C.標準狀況下，22.4LN2和H2混合氣中含2NA個原子
D.3mol單質Fe完全轉變?yōu)镕e3O4 ， 失去9NA個電子
科目：高中化學 來源： 題型：
【題目】W，X，Y，Z均為短周期元素，W的最外層電子數(shù)與核外電子總數(shù)之比為7：17；X與W同主族；Y的原子序數(shù)是W和X的原子序數(shù)之和的一半；含Z元素的物質焰色反應為黃色．下列判斷正確的是（ ）
A.金屬性：Y＞Z
B.氫化物的沸點：X＞W(wǎng)
C.離子的還原性：X＞W(wǎng)
D.原子及離子半徑：Z＞Y＞X
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科目：高中化學 來源： 題型：
【題目】有50mLNaOH溶液，向其中逐漸通入一定量的CO2，隨后取此溶液10mL將其稀釋到100mL，并向此稀釋后的溶液中逐滴加入0.1mol/L的HCl溶液，產(chǎn)生的CO2氣體體積（標準狀況下）與所加入的HCl的體積之間的關系如圖所示：試分析：
（1）NaOH在吸收CO2氣體后，在甲、乙 兩種情況下，所得溶液中存在的溶質是
甲：_____________其物質的量之比是：__________
乙：_____________其物質的量之比是：__________
（2）在兩種情況下產(chǎn)生的CO2氣體（標準狀況）各是甲：___________；乙：___________。
（3）原NaOH溶液的物質的量濃度是___________；
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科目：高中化學 來源： 題型：
【題目】某無色溶滾中可能含有Na+、NH4+、Ba2+、Cu2+、SO42﹣、SO32﹣、Cl﹣、Br﹣、CO32﹣中的若干種．為檢驗其中含有的離子，進行如下實驗：
①取10mL溶液，加入足量氯水，無氣體產(chǎn)生，再加入CCl4溶液分層，下層為橙紅色；
②分液后，將①中上層溶液加入足量BaCl2和HCl溶液，產(chǎn)生白色沉淀2.33g；
③另取10mL原溶液，加入過量的濃氫氧化鈉溶液并加熱，收集到標準狀況下448mL氣體．下列關于原溶液的說法正確的是
A. 肯定存在NH4+、Cl﹣、Br﹣
B. SO42﹣、SO32﹣至少含有一種
C. 是否存在Na+需要通過焰色反應來確定
D. 肯定不存在Ba2+、Cu2+、SO32﹣、CO32﹣
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科目：高中化學 來源： 題型：
【題目】在一定條件下，向一帶活塞的密閉容器中充入2molSO2和lmolO2，發(fā)生下列反應： 2SO2(g)+ O2(g)
2SO3(g)，達到平衡后改變下述條件，再次平衡后SO3氣體濃度不變的是
A. 保持溫度和容器體積不變，充入1molSO3(g)
B. 保持溫度和容器內壓強不變，充入1molSO3(g)
C. 保持溫度和容器內壓強不變，充入1molO2(g)
D. 保持溫度和容器內壓強不變，充入1molAr(g)
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【題目】一定條件下，在密閉恒容容器中，能表示反應X(g)+2Y(g)
2Z(g)一定達到化學平衡狀態(tài)的是
①X、Y、Z的物質的量之比為：1:2:2 ②X、Y、Z的濃度不再發(fā)生變化
③容器中的壓強不再發(fā)生變化 ④單位時間內生成nmolZ，同時生成2nmolY
⑤X、Y、Z的濃度相等時 ⑥正反應和逆反應的速率均相等且都為零
⑦密閉容器內氣體的密度不再變化 ⑧密閉容器內氣體的平均相對分子質量不再變化
A. ①②⑤⑥ B. ①④⑦⑧ C. ②③⑧ D. ③④⑦
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【題目】強酸與強堿稀溶液發(fā)生中和反應的熱效應：H＋(aq)+OH－(aq)＝H2O(l) ΔH＝－57.3 kJ/mol，向1 L 0.5 mol/L的NaOH溶液中加入稀醋酸、濃H2SO4、稀HNO3，則恰好完全反應時的熱效應ΔH1、ΔH2、ΔH3的關系正確的是
A.ΔH1＞ΔH2＞ΔH3B.ΔH1＜ΔH3＜ΔH2
C.ΔH2＞ΔH1＞ΔH3D.ΔH1＞ΔH3＞ΔH2
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【題目】工業(yè)上可用粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質)與干燥的HCl氣體反應制得SiHCl3：Si+3HCl=SiHCl3+H2，SiHCl3與過量的H2在1000℃～1100℃反應制得純硅。
有關物質的物理常數(shù)見下表：
物質 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | SiHCl3 | PCl5 |
沸點/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | 33.0 | — |
熔點/℃ | -70.0 | -107.2 | — | — | -126.5 | — |
升華溫度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
（1）粗硅與HCl反應完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl3中含有少量SiCl4，提純SiHCl3可采用
___________的方法
（2）實驗室也可用SiHCl3與過量干燥的H2反應制取純硅，裝置如下圖所示（加熱和夾持裝置略去）：
①裝置B中的試劑是___________，裝置C需水浴加熱，目的是 ____________________。
②反應一段時間后，裝置D中可觀察到有晶體硅生成，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是_____________。
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