Question

【題目】光刻膠是大規模集成電路、印刷電路版和激光制版技術中的關鍵材料，某一光刻膠M的合成路線如下： (部分試劑、反應條件和產物已略去)

已知：

Ⅰ．(R1，R2為烴基或氫)

Ⅱ．(R1，R2為烴基)

（1）寫出A的結構簡式______，B分子中的含氧官能團的名稱為_______________。

（2）寫出B與銀氨溶液發生反應的化學方程式____________________________________。

（3）下列有關光刻膠M的說法正確的是______________________（填字母序號）。

a．可穩定存在于堿性溶液中

b．化學式為C11H10O2

c．可發生氧化反應、還原反應、取代反應

d. 1mol該物質與足量H2發生加成反應時可消耗4mol H2

（4）乙炔和羧酸X發生加成反應生成E，E的核磁共振氫譜有三組峰，且峰面積比為3:2:1， E能使溴水褪色且能發生水解反應，則F的結構簡式為________________________。

（5）與C具有相同官能團且含有苯環的同分異構體還有______種（不考慮立體異構）；C的另一種同分異構體滿足下列條件:①能發生銀鏡反應和水解反應，其水解產物之一能與FeCl3溶液發生顯色反應②苯環上的一氯取代產物只有兩種,寫出該同分異構體的結構簡式:_________。

（6）根據已有知識并結合相關信息，寫出以CH3CHO為原料制備CH3CH2CH2COOH的合成路線流程圖_______________________(無機試劑任意選用)，合成路線流程圖示例如下： CH3CH2Br CH3CH2OHCH3COOCH2CH3

Answer 1

【答案】 醛基 c 4 , CH3CHOCH3CH=CHCHO CH3CH=CHCOOHCH3CH2CH2COOH。

【解析】

試題根據D，可以反推出A為，B為，C為，羧酸X為CH3COOH，E為，F為，根據此分析進行解答。

（1）A是苯甲醛，A的結構簡式，B為，含氧官能團為醛基。

故答案為 醛基

（2）已知B為，和銀氨溶液發生化學反應為：

故答案為

（3）D與G生成光刻膠，結合信息Ⅱ，光刻膠的結構簡式為，

A．酯基會與堿溶液發生反應，故A選項錯誤。

B．光刻膠為聚合物，其單體的化學式是C11H10O2，故B選項錯誤。

C．由該化合物的結構簡式可知，化合物含有C=C和酯基，可以發生氧化反應、還原反應、取代反應，故C選項正確。

D．C=C及苯環均與氫氣發生加成反應，則1mol該物質可消耗4nmolH2，故D選項錯誤。

故答案選C

（4）根據分析可得E的核磁共振氫譜有三組峰，且峰面積比為3:2:1， E能使溴水褪色且能發生水解反應，故E中含有碳碳雙鍵與酯基，E為，F為。

故答案為

（5）C為含有相同官能團且含有苯環結構，有乙烯基與羧基在苯環鄰位、間位、對位三種和羧基位于乙烯基另外一個碳原子上，共四種同分異構體。能發生銀鏡反應，其水解產物之一能與FeCl3溶液發生顯色反應，說明HCOO-直接與苯環相連；②苯環上的一氯取代產物只有兩種，說明苯環有2個對位上的取代基。符合條件的C的同分異構體的結構簡式是。

故答案為 4

（6）2分子CH3CHO合成CH3CH=CHCHO，CH3CH=CHCHO氧化為CH3CH=CHCOOH，CH3CH=CHCOOH與氫氣發生加成反應生成CH3CH2CH2COOH，合成路線是

故答案為