【題目】下列說法不正確的是
A.向某溶液中滴加KSCN溶液，溶液呈血紅色，證明存在Fe3+
B.氫氧化鈉溶液保存在帶橡皮塞的試劑瓶中
C.漂白粉常作環境消毒劑
D.工業上用電解飽和食鹽水來制取金屬鈉
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【題目】常溫下向20mL0.1mol/LHA溶液中逐滴加入0.1mol/LNaOH溶液，其pH變化情況如圖所示（忽略溫度變化）．下列說法中不正確的是（ ） 
A.由題可知HA為弱酸
B.滴定終點位于c和d點之間
C.滴定到b點時：n（Na+）+n（H+）﹣n（OH﹣）+n（HA）=0.002mol
D.滴定到d點時：c（OH﹣）＞c（Na+）＞c（A﹣）＞c（H+）
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【題目】未來新能源的特點是資源豐富，在使用時對環境無污染或很少污染，且有些可以再生．下列屬最有希望的新能源的是（ ）
①天然氣 ②煤 ③核能 ④水電 ⑤太陽能 ⑥燃料電池 ⑦風能 ⑧氫能．
A.①②③④
B.⑤⑥⑦⑧
C.③④⑤⑥
D.除①②外
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【題目】下列對水體污染物的處理方法中，不正確的是
A.含鹽酸的酸性廢水用中和法處理B.含Cu2＋、Fe3＋的廢水用沉淀法處理
C.含有細菌的污水用臭氧殺菌D.含有重金屬離子的廢水用明礬處理
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【題目】在“HI(s) → HI(g) → H2和I2”的變化過程中，被破壞的作用力依次是
A. 分子間作用力、分子間作用力B. 分子間作用力、共價鍵
C. 共價鍵、離子鍵D. 共價鍵、共價鍵
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【題目】硅單質及其化合物應用很廣。請回答下列問題：
（1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如下：
①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式。
②整個制備過程必須嚴格控制無水、無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、
HCl和另一種物質，寫出配平的化學反應方程式；H2
還原SiHCl3過程中若混有O2 ， 可能引起的后果是。
（2）下列有關硅材料的說法正確的是( )。
A.單質硅化學性質穩定，但可以被強堿溶液腐蝕
B.鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高
D.光導纖維的主要成分是SiO2
（3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入鹽酸，
振蕩。寫出實驗現象并給予解釋(用化學方程式說明)。
（4）在人體器官受到損傷時，需要使用一種新型無機非金屬材料來植入體內，這種材料是________(填字母)。
A.高溫結構陶瓷
B.生物陶瓷
C.導電陶瓷
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【題目】相等物質的量的CO和CO2的下列比較中正確的是（）
所含的分子數目之比為1：1
所含的氧原子數目之比為1：1
所含的原子總數目之比為2：3
所含的碳原子數目之比為1：1
A. B. C. D.
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【題目】現有一種以黃銅礦和硫磺為原料制取銅和其他產物的新工藝，原料的綜合利用率較高．其主要流程如圖： 
注：反應Ⅱ的離子方程式為Cu2++CuS+4Cl﹣=2[CuCl2]﹣+S↓
請回答下列問題：
（1）反應Ⅲ中的CuCl2﹣中銅元素的化合價為 ， 傳統工藝制銅是將銅礦砂與空氣在高溫下煅燒，使這種方
法的缺點是要消耗大量的熱能以及（完成合理的一種即可）．
（2）為使反應Ⅰ中充分進行，工業可采取的措施是 ， 反應Ⅰ生成12gFeS2轉移的電子數為 ．
（3）反應Ⅲ的離子方程式為 ， 一定溫度下，在反應Ⅲ所得的溶液中加入稀硫酸，可以析出硫酸銅晶
體，其可能的原因是 ．
（4）工業上煉鋼時，可將鐵紅投入熔融的生鐵中，煉鋼時為了降低含碳量，該過程中主要反應的化學方程
式是 ． 工業上可以用NaOH溶液或氨水吸收過量的SO2 ， 分別生成NaHSO3、NH4HSO3 ， 其水溶液均
呈酸性，相同條件下，同濃度的兩種水溶液中c（SO32﹣）較小的是 ．
（5）某硫酸廠為測定反應Ⅳ所得氣體中SO2的體積分數，取280mL（已折算成標準狀況）氣體樣品與足量
Fe2（SO4）3溶液完全反應后，用濃度為0.02000molL﹣1的K2Cr2O7標準溶液滴定至終點，消耗K2Cr2O7溶液25.00mL，已知Cr2O72﹣+Fe2++H+→Cr3++Fe3++H2O（未配平）反應Ⅳ所得氣體中SO2的體積分數為 ．
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【題目】取三張藍色石蕊試紙濕潤后貼在玻璃片上，然后按順序分別滴加濃硝酸、98.3%的濃硫酸、新制氯水，三張試紙最終變成
A．白、紅、白 B．紅、黑、白 C．紅、紅、紅 D．白、黑、白
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