Question

（15分）

氮化硅（Si₃N₄）是一種優(yōu)良的高溫結構陶瓷，在工業(yè)生產(chǎn)和科技領域有重要用途．

I.工業(yè)上有多種方法來制備氮化硅，常見的方法有：

方法一  直接氮化法：在1300℃-1400℃時，高純粉狀硅與純氮氣化合，其反應方程式為             .

方法二  化學氣相沉積法：在高溫條件下利用四氯化硅氣體、純氮氣、氫氣反應生成氮化硅和HCl，與方法一相比，用此法制得的氮化硅純度較高，其原因是           .

方法三  Si(NH₂)₄熱分解法：先用四氯化硅與氨氣反應生成Si(NH₂)₄和一種氣體（填分子式）      ；然后使Si(NH₂)₄受熱分解，分解后的另一種產(chǎn)物的分子式為           ．

II.工業(yè)上制取高純硅和四氯化硅的生產(chǎn)流程如下：

已知：X、高純硅、原料B的主要成分都可與Z反應，Y與X在光照或點燃條件下可反應，Z的焰色呈黃色．

（1）寫出焦炭與原料B中的主要成分反應的化學方程式：                        ．

（2）上述生產(chǎn)流程中電解A的水溶液的化學方程式：                        ．

 

Answer 1

【答案】

（15分）

I：3Si + 2N₂ Si₃N₄；（2分）

方法一所得產(chǎn)品中混有硅或方法二除產(chǎn)品是固體外其它物質均為氣體（3分）；HCl（2分）,NH₃（2分）

Ⅱ：(1) SiO₂ + 2C Si + 2CO↑（3分）

（2）2NaCl+2H2O===H2↑ +Cl2↑ +2NaOH  ( 條件電解)（3分）

【解析】