Question

【題目】[選修2--化學與技術]海水曬鹽的鹵水中還有氯化鎂，以鹵水為原料生產鎂的一中工藝流程如圖所示．
回答下列問題：
（1）脫硫槽、攪拌槽均用于脫除鹵水中的（填離子符號），M的主要成分是（填化學式）．
（2）除溴塔中主要的離子方程式為 ．
（3）沸騰爐①和②的主要作用是 ． 沸騰爐③通入熱氯化氫的主要目的是 ．
（4）電解槽中陰極的電極反應方程式為 ．
（5）電解槽中陽極產物為 ， 該產物可直接用于本工藝流程中的 ．

Answer 1

【答案】
（1）SO42﹣；BaSO4
（2）Cl2+2Br﹣═2Cl﹣+Br2
（3）脫除氯化鎂晶體中的部分水；防止氯化鎂晶體進一步脫水過程中發生水解
（4）Mg2++2e﹣═Mg
（5）氯氣；除溴塔（除溴工段）
【解析】鹵水中含有Mg2+、Na+、Cl﹣、SO42﹣、Br﹣等離子，鹵水中加入CaO在脫硫槽除去SO42﹣ ， 生成CaSO4 ， 經過濾機①得到X為CaSO4 ， 經除溴塔，通入氯氣，可除去Br﹣ ， 生成Z為Br2 ， 在攪拌槽中加入BaO，進一步除去SO42﹣ ， M的主要成分是BaSO4 ， 經蒸發器、造粒塔，得到氯化鎂晶體，再經沸騰爐①和②脫除氯化鎂晶體中的部分水，沸騰爐③通入熱的HCl氣體，可防止發生水解，在電解槽中電解熔融的氯化鎂，可得到鎂錠。
（1）由以上分析可知脫硫槽、攪拌槽均用于脫除鹵水中的 SO42﹣ ， M的主要成分是BaSO4 ， 所以答案是：SO42﹣；BaSO4；
（2）除溴塔中通入氯氣，以除去Br﹣生成Br2 ， 所以答案是：Cl2+2Br﹣═2Cl﹣+Br2；
（3）經沸騰爐①和②脫除氯化鎂晶體中的部分水，因氯化鎂易水解生成氫氧化鎂，則沸騰爐③通入熱的HCl氣體，可防止發生水解，所以答案是：脫除氯化鎂晶體中的部分水；防止氯化鎂晶體進一步脫水過程中發生水解；
（4）電解氯化鎂生成鎂和氯氣，陰極發生還原反應，電極方程式為Mg2++2e﹣═Mg，所以答案是：Mg2++2e﹣═Mg；
（5）陽極生成氯氣，可用于除溴塔，除去溴，所以答案是：氯氣；除溴塔（除溴工段）．