Question

【題目】由粗硅制備硅烷（SiH4）的基本流程如圖所示：

已知：反應Ⅰ的化學方程式為Si＋3HCl= SiHCl3＋X，反應Ⅱ的化學方程式為SiHCl3＋Y = Si＋3HCl（均已配平）。下列說法不正確的是

A.X和Y為同一種物質

B.SiH4的穩定性比NH3強

C.流程中的4個反應有3個屬于氧化還原反應

D.反應Ⅳ中SiH4、NH3兩種氣體在常溫常壓下體積比為1∶4

Answer 1

【答案】B

【解析】

根據流程可知，粗硅加入HCl發生氧化還原得到SiHCl3和H2，SiHCl3與H2再發生氧化還原得到高純硅和HCl，高純硅與Mg發生氧化還原反應生成Mg2Si，Mg2Si與NH4Cl發生復分解反應生成SiH4、NH3和MgCl2，反應方程式為Mg2Si+4NH4Cl=== SiH4↑+4NH3↑+2MgCl2，據此分析解答問題。

A．由已知，反應Ⅰ的化學方程式為Si＋3HCl= SiHCl3＋X，反應Ⅱ的化學方程式為SiHCl3＋Y = Si＋3HCl（均已配平），根據原子守恒可得，X為H2，Y為H2，是同一種物質，A選項正確；

B．非金屬性越強，簡單氫化物的穩定性越強，非金屬性：N>Si，則穩定性：NH3>SiH4，B選項錯誤；

C．根據上述分析可知，流程中的4個反應有3個屬于氧化還原反應，C選項正確；

D．由反應Ⅳ的反應方程式Mg2Si+4NH4Cl=== SiH4↑+4NH3↑+2MgCl2可知反應中SiH4、NH3兩種氣體在常溫常壓下體積比為1∶4，D選項正確；

答案選B。